OBLF光譜儀是一種高精度的光譜分析儀器，其原理基于散射和反射現(xiàn)象。它向被測(cè)物質(zhì)中發(fā)射一束寬譜白光，并通過(guò)光纖探頭接收反射和散射光。被測(cè)物質(zhì)中的顆粒、分子或界面會(huì)根據(jù)其顏色和形態(tài)對(duì)光的散射和反射產(chǎn)生不同的效應(yīng)。在光纖中傳輸?shù)墓庑盘?hào)會(huì)受到被測(cè)物質(zhì)中顆粒和分子的散射和吸收作用，導(dǎo)致光強(qiáng)度的衰減。通過(guò)測(cè)量不同波長(zhǎng)的光強(qiáng)度，可以得到材料對(duì)不同波長(zhǎng)光的吸收和散射特性，從而分析樣品的成分和結(jié)構(gòu)。

　　OBLF光譜儀的主要特點(diǎn)包括：

　　1、技術(shù)先進(jìn)：采用GDS（Gated discharge source）脈沖放電光源技術(shù)、全固態(tài)電路，無(wú)需輔助電極，維護(hù)簡(jiǎn)單。

　　2、高效節(jié)能：無(wú)靜態(tài)氬設(shè)計(jì)，在等待樣品分析時(shí)可以不用氬氣保護(hù)，大大減少氬氣消耗量。

　　3、多基體分析能力：可同時(shí)分析Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Mg、Pb、Sn、Zn、Co等各種基體材料。

　　4、快速分析：自動(dòng)完成從磨樣、取樣到分析的全部過(guò)程，通常只需一分鐘內(nèi)即可完成。

　　5、高穩(wěn)定性：光學(xué)系統(tǒng)采用真空光室，積分及控制電路置于真空光室中，不受外界環(huán)境變化的影響，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性佳。

　　6、自清潔功能：開(kāi)放式的電極架設(shè)計(jì)，具有自清潔功能，便于各種形狀和尺寸的樣品分析。

　　7、靈活配置：最多可安置60個(gè)分析通道，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍。

　　8、操作簡(jiǎn)便：儀器操作界面友好，易于上手，且具備自動(dòng)化程度高的特點(diǎn)。

　　9、廣泛應(yīng)用：適用于冶金、鋼鐵、鑄造、有色行業(yè)等實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下的快速分析需求。